Jak zrobić amorficznego Ogniwo słoneczne

amorficznego krzemu ogniwa słoneczne sąnajczęściej używane technologia ogniw słonecznych i cienkowarstwowych są uważane zanajlepszą alternatywę dla droższych , ale także bardziej efektywne , krystaliczny technologii słonecznej . Obie technologie opierają się na półprzewodnikach ( zazwyczaj na bazie krzemu ), które przechwytywania z energii słońca , ale amorficzne ogniwa fotowoltaiczne mają mniej sztywno strukturze dystrybucji cząsteczkowej , które pozwalają na układanie wielu warstw o większej wydajności .


opłacalne metody wytwarzania paneli wykonanych z tych komórek okazała nieuchwytny , ponieważ produkcja komórek amorficzny wymaga specjalistycznej maszyny do osadzania warstw krzemu równomiernie na komórki materiału podkładowego , .Things będzie potrzebne
materiał nośnika : szkła , stali nierdzewnej , tworzywa sztucznego odpornego na ciepło lub wyspecjalizowane dachówki
gazu nadprzewodnika jak silan ( SiH4 )
plazmowy wzmocnione lub gorący drut maszyna chemicznego osadzania
Pokaż więcej instrukcji
Tworzenie amorficznych Solar Cells
matematyczne 1

Wybierz jaki rodzaj materiału podłoża chcesz się ogniwa słoneczne , aby być na . Amorficzny materiał nadprzewodnik , czy to krzem lub inny, jest najczęściej dołączony do szkła lub stali nierdzewnej , ale może być również przymocowany do elastycznego tworzywa sztucznego (dla rolkowych panelu słonecznego ) lub wyspecjalizowanej dachówki .
2

Po wybraniu materiału podłoża , można zastosować warstwę nadprzewodnika do niego albo przez osadzanie z fazy gazowej wspomagane plazmą chemiczne ( PECVD ) lub gorącego drutu systemu osadzania katalitycznego ( HWCVD ) . Zakładając, że tworzą komórkę na bazie krzemu , PECVD działa poprzez wyizolowanie materiału podłoża w komorze wypełnionej silanu ( SiH4 ), a gazy wodoru (w celu zwiększenia jednorodności komórkę) . Moc wielkiej częstotliwości o częstotliwości radiowej jest stosowana do gazu na płytkach elektrod w celu utworzenia bardzo zjonizowanego gazu o nazwie"projekt ", który będzie pobudzać silan i spowodować, że rozkłada się na jego składniki krzemu i wodoru . HWCVD polega na podobnej zasadzie , ale zamiast osocza do pobudzenia gazu silanowego , jestprzegrzaną włókna metalowego , który powoduje, że rodniki krzemu zerwać .
3

Gdygaz zawiera silan ogrzewana i wzbudzeniu w systemach PECVD lub HSCVD ,depozyt atomy krzemu na materiale podłoża tak, że trzy z czterech regionów wiążących na atom krzemu są kowalencyjnie związane z innymi atomami krzemu , podczas gdyczwarty ma atom wodoru (który daje bezpostaciową komórkę jego elastyczność ) . Ukończony produkt będzie jedno duże komórki , do których można zainstalować inne warstwy , w zależności od Twoich planów ogniwa słonecznego .
4

najwyższą efektywność amorficzne panele słoneczne , zwane komórki " multijunction " , składają się z wielu warstw o tych bezpostaciowych ogniw słonecznych wykonana z wielu różnych stopów nadprzewodnikowych . Poszczególne warstwy każdy przechwytywania fal świetlnych o różnych długościach fal , zwiększając w ten sposób widma i ilość światła , które będzie wchłaniany i przekształcany do władzy . Inne ulepszenia , jak nonreflective warstwy , dodatkowo zwiększyć efektywność paneli ' i​​przejrzyste prowadzenie transferów filmowe tlenek elektryczność między warstwami .